ALD फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टल

VeTek सेमीकंडक्टर ALD फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टल सेमीकंडक्टर उत्पादन प्रक्रियेत मुख्य भूमिका बजावतेक्वार्ट्ज बोट, जे ठेवण्यासाठी वापरले जातेवेफर. फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टल स्थिर तापमान राखून एकसमान फिल्म डिपॉझिशन प्राप्त करण्यास मदत करते, जे सेमीकंडक्टर उपकरणांच्या कार्यक्षमतेवर आणि विश्वासार्हतेवर थेट परिणाम करते. याव्यतिरिक्त, क्वार्ट्ज पेडेस्टल प्रक्रिया चेंबरमध्ये उष्णता आणि प्रकाशाचे समान वितरण सुनिश्चित करते, ज्यामुळे डिपॉझिशन प्रक्रियेची एकूण गुणवत्ता सुधारते.

ALD फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टल मटेरियलचे फायदे

उच्च तापमान प्रतिकार: फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टलचा सॉफ्टनिंग पॉइंट सुमारे 1730°C इतका जास्त असतो आणि ते 1100°C ते 1250°C पर्यंत दीर्घकाळापर्यंत उच्च तापमानाचा सामना करू शकतो आणि 1450°C पर्यंत अत्यंत तापमानाच्या वातावरणास सामोरे जाऊ शकतो. थोड्या काळासाठी.

उत्कृष्ट गंज प्रतिकार: हायड्रोफ्लोरिक ऍसिड वगळता जवळजवळ सर्व ऍसिडसाठी फ्यूज्ड क्वार्ट्ज अत्यंत रासायनिकदृष्ट्या निष्क्रिय आहे. त्याची आम्ल प्रतिरोधक क्षमता सिरेमिकपेक्षा 30 पट जास्त आणि स्टेनलेस स्टीलपेक्षा 150 पट जास्त आहे. उच्च तापमानात फ्यूज्ड क्वार्ट्ज रासायनिकदृष्ट्या अतुलनीय आहे, ज्यामुळे ते जटिल रासायनिक प्रक्रियांसाठी एक आदर्श सामग्री बनते.

थर्मल स्थिरता: फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टल मटेरियलचे मुख्य वैशिष्ट्य म्हणजे थर्मल विस्ताराचे अत्यंत कमी गुणांक. याचा अर्थ ते क्रॅक न करता तापमानातील नाट्यमय चढउतार सहजपणे हाताळू शकते. उदाहरणार्थ, फ्यूज्ड सिलिका क्वार्ट्ज त्वरीत 1100°C पर्यंत गरम केले जाऊ शकते आणि नुकसान न होता थेट थंड पाण्यात विसर्जित केले जाऊ शकते, उच्च-ताण उत्पादन परिस्थितीत एक महत्त्वाचे वैशिष्ट्य.

कठोर उत्पादन प्रक्रिया: फ्यूज्ड सिलिका पेडेस्टल्सची उत्पादन प्रक्रिया उच्च दर्जाच्या मानकांचे काटेकोरपणे पालन करते. उत्पादन प्रक्रियेत हॉट फॉर्मिंग आणि वेल्डिंग प्रक्रियांचा वापर केला जातो, ज्या सामान्यतः क्लीनरूमच्या 10,000 वर्गाच्या वातावरणात पूर्ण केल्या जातात. त्यानंतर, उत्पादनाची शुद्धता आणि इष्टतम कार्यप्रदर्शन सुनिश्चित करण्यासाठी फ्यूज्ड क्वार्ट्ज ग्लास पेडेस्टल अल्ट्राप्युअर पाण्याने (18 MΩ) पूर्णपणे स्वच्छ केले जाते. सेमीकंडक्टर उद्योगाच्या उच्च मानकांची पूर्तता करण्यासाठी प्रत्येक तयार उत्पादनाची काटेकोरपणे तपासणी केली जाते, साफ केली जाते आणि वर्ग 1,000 किंवा उच्च क्लीनरूममध्ये पॅकेज केले जाते.

उच्च शुद्धता अपारदर्शक सिलिका क्वार्ट्ज सामग्री

VeTeksemi ALD फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टल उष्णता आणि प्रकाश प्रभावीपणे वेगळे करण्यासाठी उच्च शुद्धता अपारदर्शक क्वार्ट्ज सामग्री वापरते. त्याचे उत्कृष्ट उष्णता संरक्षण आणि हलके संरक्षण गुणधर्म हे प्रक्रियेच्या कक्षेत समान तापमान वितरण राखण्यास सक्षम करते, एकसमानता आणि पातळपणाची सुसंगतता सुनिश्चित करते.चित्रपट प्रदर्शनवेफर पृष्ठभागावर.

अर्ज फील्ड

फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टल्स त्यांच्या उत्कृष्ट कार्यक्षमतेमुळे सेमीकंडक्टर उद्योगाच्या अनेक क्षेत्रांमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले जातात. मध्येअणु लेयर डिपॉझिशन (ALD) प्रक्रिया, हे फिल्मच्या वाढीच्या अचूक नियंत्रणास समर्थन देते आणि सेमीकंडक्टर उपकरणांची प्रगती सुनिश्चित करते. मध्येकमी दाबाची रासायनिक वाफ जमा करण्याची प्रक्रिया (LPCVD), उच्च शुद्धता क्वार्ट्ज पेडेस्टलची थर्मल स्थिरता आणि प्रकाश संरक्षण क्षमता पातळ फिल्म्स एकसमान ठेवण्याची हमी देते, ज्यामुळे उपकरणाची कार्यक्षमता आणि उत्पन्न सुधारते.

याव्यतिरिक्त, डिफ्यूजन वेफर प्रक्रियेत, फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टलचा उच्च तापमान प्रतिरोध आणि रासायनिक गंज प्रतिरोधक सेमीकंडक्टर सामग्री डोपिंग प्रक्रियेची विश्वासार्हता आणि सुसंगतता सुनिश्चित करते. या प्रमुख प्रक्रिया सेमीकंडक्टर उपकरणांचे विद्युत कार्यप्रदर्शन निर्धारित करतात आणि उच्च-गुणवत्तेची फ्यूज्ड क्वार्ट्ज सामग्री या प्रक्रियेचे उत्कृष्ट परिणाम साध्य करण्यासाठी अपरिहार्य भूमिका बजावतात.

VeTek सेमीकंडक्टर ALD फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडेस्टल दुकाने: