मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉनसाठी क्रूसिबल

CZ (Czochralski) पद्धतीमध्ये, वितळलेल्या पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉनच्या संपर्कात मोनोक्रिस्टलाइन बियाणे आणून एकच क्रिस्टल वाढविला जातो. बी हळूहळू फिरवताना हळूहळू वरच्या दिशेने खेचले जाते. या प्रक्रियेत, ग्रेफाइट भागांची लक्षणीय संख्या वापरली जाते, ज्यामुळे सिलिकॉन सेमीकंडक्टर उत्पादनामध्ये ग्रेफाइट घटकांची सर्वाधिक मात्रा वापरण्याची पद्धत बनते.

खालील चित्र CZ पद्धतीवर आधारित सिलिकॉन सिंगल-क्रिस्टल मॅन्युफॅक्चरिंग फर्नेसचे योजनाबद्ध प्रतिनिधित्व प्रदान करते.

मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉनसाठी वेटेक सेमीकंडक्टरचे क्रूसिबल सेमीकंडक्टर क्रिस्टल्सच्या अचूक निर्मितीसाठी एक स्थिर आणि नियंत्रित वातावरण प्रदान करते. झोक्राल्स्की प्रक्रिया आणि फ्लोट-झोन पद्धती यांसारख्या प्रगत तंत्रांचा वापर करून मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन इंगॉट्स वाढविण्यात ते महत्त्वपूर्ण आहेत, जे इलेक्ट्रॉनिक उपकरणांसाठी उच्च-गुणवत्तेची सामग्री तयार करण्यासाठी महत्त्वपूर्ण आहेत.

उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, रासायनिक गंज प्रतिकार आणि कमीतकमी थर्मल विस्तारासाठी अभियंता केलेले, हे क्रूसिबल्स टिकाऊपणा आणि मजबूतपणा सुनिश्चित करतात. ते स्ट्रक्चरल अखंडता किंवा कार्यक्षमतेशी तडजोड न करता कठोर रासायनिक वातावरणाचा सामना करण्यासाठी डिझाइन केलेले आहेत, ज्यामुळे क्रूसिबलचे आयुष्य वाढवते आणि दीर्घकाळापर्यंत वापरात सातत्यपूर्ण कामगिरी राखते.

मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉनसाठी वेटेक सेमीकंडक्टर क्रूसिबल्सची अद्वितीय रचना त्यांना उच्च-तापमान प्रक्रियेच्या अत्यंत परिस्थितीला सहन करण्यास सक्षम करते. हे अपवादात्मक थर्मल स्थिरता आणि शुद्धतेची हमी देते, जे सेमीकंडक्टर प्रक्रियेसाठी महत्त्वपूर्ण आहेत. रचना कार्यक्षम उष्णता हस्तांतरण देखील सुलभ करते, एकसमान क्रिस्टलायझेशनला प्रोत्साहन देते आणि सिलिकॉन वितळण्याच्या आत थर्मल ग्रेडियंट कमी करते.

आमच्या SiC कोटिंग ससेप्टरचे फायदे:

बेस मटेरियल प्रोटेक्शन: सीव्हीडी SiC कोटिंग एपिटॅक्सियल प्रक्रियेदरम्यान संरक्षणात्मक थर म्हणून काम करते, बेस मटेरियलची धूप आणि बाह्य वातावरणामुळे होणारे नुकसान यापासून प्रभावीपणे संरक्षण करते. हे संरक्षणात्मक उपाय उपकरणांचे सेवा आयुष्य मोठ्या प्रमाणात वाढवते.

उत्कृष्ट थर्मल कंडक्टिविटी: आमच्या CVD SiC कोटिंगमध्ये उत्कृष्ट थर्मल चालकता आहे, बेस मटेरियलमधून कोटिंग पृष्ठभागावर उष्णता कार्यक्षमतेने स्थानांतरित करते. हे एपिटॅक्सी दरम्यान थर्मल व्यवस्थापन कार्यक्षमता वाढवते, उपकरणांसाठी इष्टतम ऑपरेटिंग तापमान सुनिश्चित करते.

सुधारित चित्रपट गुणवत्ता: CVD SiC कोटिंग एक सपाट आणि एकसमान पृष्ठभाग प्रदान करते, ज्यामुळे चित्रपटाच्या वाढीसाठी एक आदर्श पाया तयार होतो. हे जाळीच्या विसंगतीमुळे उद्भवणारे दोष कमी करते, एपिटॅक्सियल फिल्मची स्फटिकता आणि गुणवत्ता वाढवते आणि शेवटी त्याची कार्यक्षमता आणि विश्वासार्हता सुधारते.

तुमच्या एपिटॅक्सियल वेफर उत्पादनाच्या गरजांसाठी आमचे SiC कोटिंग ससेप्टर निवडा आणि वर्धित संरक्षण, उत्कृष्ट थर्मल चालकता आणि सुधारित फिल्म गुणवत्ता यांचा लाभ घ्या. सेमीकंडक्टर उद्योगात तुमचे यश मिळवण्यासाठी VeTek सेमीकंडक्टरच्या नाविन्यपूर्ण उपायांवर विश्वास ठेवा.

उत्पादन दुकाने:

सेमीकंडक्टर चिप एपिटॅक्सी उद्योग साखळीचे विहंगावलोकन: