सिलिकॉन ऑन इन्सुलेटर वेफर

च्या कामकाजाचे तत्त्वVeTek सेमीकंडक्टरच्यासिलिकॉन ऑन इन्सुलेटर वेफरमुख्यत्वे त्याच्या अद्वितीय रचना आणि भौतिक गुणधर्मांवर अवलंबून असते. आणि SOI वेफरतीन स्तरांचा समावेश होतो: वरचा स्तर सिंगल-क्रिस्टल सिलिकॉन उपकरण स्तर आहे, मध्यभागी एक इन्सुलेटिंग बरीड ऑक्साइड (BOX) स्तर आहे आणि खालचा स्तर एक सपोर्टिंग सिलिकॉन सब्सट्रेट आहे.

इन्सुलेशन लेयरची निर्मिती: सिलिकॉन ऑन इन्सुलेटर वेफर हे सहसा स्मार्ट कट™ तंत्रज्ञान किंवा SIMOX (इम्प्लांटेड ऑक्सिजनद्वारे वेगळे करणे) तंत्रज्ञान वापरून तयार केले जाते. Smart Cut™ तंत्रज्ञान बबल लेयर तयार करण्यासाठी सिलिकॉन वेफरमध्ये हायड्रोजन आयन इंजेक्ट करते आणि नंतर हायड्रोजन-इंजेक्टेड वेफरला सपोर्टिंग सिलिकॉन वेफरशी जोडते. उष्णतेच्या उपचारानंतर, हायड्रोजन-इंजेक्ट केलेले वेफर बुडबुड्याच्या थरातून विभक्त होऊन SOI रचना बनते. SIMOX तंत्रज्ञान उच्च तापमानात सिलिकॉन ऑक्साईड थर तयार करण्यासाठी उच्च-ऊर्जा ऑक्सिजन आयन सिलिकॉन वेफर्समध्ये रोपण करते.

परजीवी क्षमता कमी करा: च्या बॉक्स लेयरसिलिकॉन ऑन इन्सुलेटर वेफरडिव्हाइस लेयर आणि बेस सिलिकॉन प्रभावीपणे वेगळे करते, परजीवी कॅपेसिटन्स लक्षणीयरीत्या कमी करते. हे अलगाव वीज वापर कमी करते आणि डिव्हाइसची गती आणि कार्यक्षमता वाढवते.

लॅच-अप इफेक्ट टाळा: मध्ये n-वेल आणि p-वेल उपकरणेSOI वेफरपारंपारिक CMOS स्ट्रक्चर्समध्ये लॅच-अप प्रभाव टाळून, पूर्णपणे विलग आहेत. हे परवानगी देतेसिलिकॉन ऑन इन्सुलेटर  वेफर जास्त वेगाने उत्पादित करणे.

Etch स्टॉप फंक्शन: SOI वेफरचा सिंगल क्रिस्टल सिलिकॉन डिव्हाईस लेयर आणि BOX लेयर स्ट्रक्चर एमईएमएस आणि ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणांच्या निर्मितीस सुलभ करते, उत्कृष्ट एच स्टॉप फंक्शन प्रदान करते.

या वैशिष्ट्यांद्वारे,सिलिकॉन ऑन इन्सुलेटर वेफरसेमीकंडक्टर प्रक्रियेत महत्त्वाची भूमिका बजावते आणि एकात्मिक सर्किट (IC) आणि मायक्रोइलेक्ट्रोमेकॅनिकल सिस्टम (MEMS) उद्योगांच्या निरंतर विकासास प्रोत्साहन देते. आम्ही तुमच्याशी पुढील संवाद आणि सहकार्यासाठी प्रामाणिकपणे उत्सुक आहोत.

उत्पादन पॅरामीटर：

उत्पादन दुकाने:

सेमीकंडक्टर चिप एपिटॅक्सी इंडस्ट्री चेनचे विहंगावलोकन：