सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग उद्योगात, उपकरणाचा आकार कमी होत असताना, पातळ फिल्म मटेरियलच्या डिपॉझिशन तंत्रज्ञानाने अभूतपूर्व आव्हाने उभी केली आहेत. अणु स्तरावर तंतोतंत नियंत्रण मिळवू शकणारे पातळ फिल्म डिपॉझिशन तंत्रज्ञान म्हणून ॲटॉमिक लेयर डिपॉझिशन (ALD), सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगचा एक अपरिहार्य भा......
पुढे वाचाएका परिपूर्ण क्रिस्टलीय बेस लेयरवर इंटिग्रेटेड सर्किट्स किंवा सेमीकंडक्टर उपकरणे तयार करणे आदर्श आहे. सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमधील एपिटॅक्सी (एपीआय) प्रक्रियेचे उद्दिष्ट एकल-क्रिस्टलाइन सब्सट्रेटवर, साधारणपणे 0.5 ते 20 मायक्रॉन, एक बारीक एकल-स्फटिकीय थर जमा करणे आहे. सेमीकंडक्टर उपकरणांच्या निर्म......
पुढे वाचाएपिटॅक्सी आणि ॲटॉमिक लेयर डिपॉझिशन (एएलडी) मधील मुख्य फरक त्यांच्या फिल्म वाढीची यंत्रणा आणि ऑपरेटिंग परिस्थितीमध्ये आहे. Epitaxy म्हणजे विशिष्ट अभिमुखता संबंध असलेल्या स्फटिकाच्या थरावर स्फटिकासारखे पातळ फिल्म वाढवण्याची प्रक्रिया, समान किंवा समान स्फटिक रचना राखून. याउलट, एएलडी हे डिपॉझिशन तंत्र आ......
पुढे वाचाCVD TAC कोटिंग ही सब्सट्रेट (ग्रेफाइट) वर दाट आणि टिकाऊ कोटिंग तयार करण्याची प्रक्रिया आहे. या पद्धतीमध्ये उच्च तापमानात सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर TaC जमा करणे समाविष्ट आहे, परिणामी उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता आणि रासायनिक प्रतिकारासह टँटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग तयार होते.
पुढे वाचा