सिलिकॉन कार्बाइड शॉवर हेड

VeTek Semiconductor हा चीनमधील सिलिकॉन कार्बाइड शॉवर हेड उत्पादनांचा अग्रगण्य निर्माता आणि पुरवठादार आहे. SiC शॉवर हेडमध्ये उत्कृष्ट उच्च तापमान सहिष्णुता, रासायनिक स्थिरता, थर्मल चालकता आणि गॅस वितरणाची चांगली कामगिरी आहे, ज्यामुळे एकसमान गॅस वितरण आणि फिल्म गुणवत्ता सुधारू शकते. म्हणून, हे सामान्यतः उच्च तापमान प्रक्रियेत वापरले जाते जसे की रासायनिक वाष्प संचय (CVD) किंवा भौतिक वाष्प संचय (PVD) प्रक्रिया. तुमच्या पुढील सल्लामसलतीचे स्वागत आहे.

चौकशी पाठवा

उत्पादन वर्णन

VeTek सेमीकंडक्टर सिलिकॉन कार्बाइड शॉवर हेड प्रामुख्याने SiC चे बनलेले आहे. सेमीकंडक्टर प्रोसेसिंगमध्ये, सिलिकॉन कार्बाइड शॉवर हेडचे मुख्य कार्य म्हणजे रिॲक्शन गॅसचे समान रीतीने वितरीत करणे जेणेकरुन एकसमान फिल्म तयार होईल.रासायनिक वाफ जमा करणे (CVD)किंवाभौतिक वाष्प निक्षेप (PVD)प्रक्रिया उच्च थर्मल चालकता आणि रासायनिक स्थिरता यासारख्या SiC च्या उत्कृष्ट गुणधर्मांमुळे, SiC शॉवर हेड उच्च तापमानात कार्यक्षमतेने कार्य करू शकते, दरम्यान गॅस प्रवाहाची असमानता कमी करू शकते.जमा करण्याची प्रक्रिया, आणि अशा प्रकारे फिल्म लेयरची गुणवत्ता सुधारते.

सिलिकॉन कार्बाइड शॉवर हेड एकाच छिद्रासह अनेक नोझलद्वारे समान रीतीने प्रतिक्रिया वायूचे वितरण करू शकते, एकसमान वायू प्रवाह सुनिश्चित करू शकते, खूप जास्त किंवा खूप कमी असलेल्या स्थानिक सांद्रता टाळू शकते आणि अशा प्रकारे फिल्मची गुणवत्ता सुधारू शकते. च्या उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिकार आणि रासायनिक स्थिरता सह एकत्रितCVD SiC, दरम्यान कोणतेही कण किंवा दूषित पदार्थ सोडले जात नाहीतचित्रपट जमा करण्याची प्रक्रिया, जे चित्रपट प्रदर्शनाची शुद्धता राखण्यासाठी महत्त्वपूर्ण आहे.

याव्यतिरिक्त, CVD SiC शॉवर हेडचा आणखी एक मोठा फायदा म्हणजे थर्मल विकृतीचा प्रतिकार. हे वैशिष्ट्य हे सुनिश्चित करते की घटक रासायनिक वाष्प संचय (CVD) किंवा भौतिक वाष्प संचय (PVD) प्रक्रियेच्या वैशिष्ट्यपूर्ण उच्च तापमान वातावरणात देखील भौतिक संरचनात्मक स्थिरता राखू शकतो. स्थिरता चुकीचे संरेखन किंवा यांत्रिक बिघाड होण्याचा धोका कमी करते, ज्यामुळे संपूर्ण उपकरणाची विश्वासार्हता आणि सेवा जीवन सुधारते.

चीनचे आघाडीचे सिलिकॉन कार्बाइड शॉवर हेड निर्माता आणि पुरवठादार म्हणून. VeTek Semiconductor CVD सिलिकॉन कार्बाइड शॉवर हेडचा सर्वात मोठा फायदा म्हणजे सानुकूलित उत्पादने आणि तांत्रिक सेवा प्रदान करण्याची क्षमता. आमचा सानुकूलित सेवा फायदा पृष्ठभाग पूर्ण करण्यासाठी विविध ग्राहकांच्या विविध आवश्यकता पूर्ण करू शकतो. विशेषतः, ते उत्पादन प्रक्रियेदरम्यान परिपक्व प्रक्रिया आणि स्वच्छता तंत्रज्ञानाच्या परिष्कृत सानुकूलनास समर्थन देते.

याशिवाय, VeTek सेमीकंडक्टर सिलिकॉन कार्बाइड शॉवर हेडच्या छिद्राच्या आतील भिंतीवर कोणताही अवशिष्ट नुकसान नसल्याची खात्री करण्यासाठी काळजीपूर्वक उपचार केले जातात, ज्यामुळे अत्यंत परिस्थितीत एकूण कार्यक्षमतेत सुधारणा होते. याव्यतिरिक्त, आमचे CVD SiC शॉवर हेड 0.2 मिमीचे किमान छिद्र साध्य करण्यास सक्षम आहे, ज्यामुळे उत्कृष्ट गॅस वितरण अचूकता प्राप्त होते आणि सेमीकंडक्टर उत्पादनादरम्यान इष्टतम गॅस प्रवाह आणि पातळ फिल्म डिपॉझिशन इफेक्ट्स राखले जातात.

SEM डेटा ऑफCVD SIC फिल्म क्रिस्टल स्ट्रक्चर：

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

CVD चे मूलभूत भौतिक गुणधर्म SiC कोटिंग：

CVD SiC कोटिंगचे मूलभूत भौतिक गुणधर्म
मालमत्ता	ठराविक मूल्य
क्रिस्टल स्ट्रक्चर	FCC β फेज पॉलीक्रिस्टलाइन, प्रामुख्याने (111) ओरिएंटेड
घनता	3.21 g/cm³
कडकपणा	2500 विकर्स कडकपणा (500 ग्रॅम लोड)
धान्य आकार	2~10μm
रासायनिक शुद्धता	99.99995%
उष्णता क्षमता	640 J·kg^-1· के^-1
उदात्तीकरण तापमान	2700℃
फ्लेक्सरल स्ट्रेंथ	415 MPa RT 4-पॉइंट
तरुणांचे मॉड्यूलस	430 Gpa 4pt बेंड, 1300℃
थर्मल चालकता	300W·m^-1· के^-1
थर्मल विस्तार (CTE)	४.५×१०^-6K^-1