चीन MOCVD तंत्रज्ञान उत्पादक, पुरवठादार, कारखाना

VeTek सेमीकंडक्टरला MOCVD तंत्रज्ञानाच्या सुटे भागांमध्ये फायदा आणि अनुभव आहे.

MOCVD, मेटल-ऑरगॅनिक केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन (मेटल-ऑरगॅनिक केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन) चे पूर्ण नाव, याला मेटल-ऑर्गेनिक व्हेपर फेज एपिटॅक्सी देखील म्हटले जाऊ शकते. ऑर्गनोमेटेलिक संयुगे धातू-कार्बन बंधांसह संयुगांचा एक वर्ग आहे. या संयुगेमध्ये धातू आणि कार्बन अणू यांच्यातील किमान एक रासायनिक बंध असतो. धातू-सेंद्रिय संयुगे बहुतेकदा पूर्ववर्ती म्हणून वापरली जातात आणि विविध डिपॉझिशन तंत्रांद्वारे सब्सट्रेटवर पातळ फिल्म किंवा नॅनोस्ट्रक्चर तयार करू शकतात.

मेटल-ऑर्गेनिक केमिकल वाफ डिपॉझिशन (एमओसीव्हीडी टेक्नॉलॉजी) हे एक सामान्य एपिटॅक्सियल ग्रोथ टेक्नॉलॉजी आहे, एमओसीव्हीडी टेक्नॉलॉजी मोठ्या प्रमाणात सेमीकंडक्टर लेझर आणि लीड्सच्या निर्मितीमध्ये वापरली जाते. विशेषत: LEDS तयार करताना, MOCVD हे गॅलियम नायट्राइड (GaN) आणि संबंधित सामग्रीच्या निर्मितीसाठी एक प्रमुख तंत्रज्ञान आहे.

एपिटॅक्सीचे दोन मुख्य प्रकार आहेत: लिक्विड फेज एपिटॅक्सी (एलपीई) आणि व्हेपर फेज एपिटॅक्सी (व्हीपीई). गॅस फेज एपिटॅक्सी पुढे मेटल-ऑर्गेनिक केमिकल वाष्प डिपॉझिशन (MOCVD) आणि आण्विक बीम एपिटॅक्सी (MBE) मध्ये विभागली जाऊ शकते.

विदेशी उपकरणे उत्पादक मुख्यत्वे Aixtron आणि Veeco द्वारे प्रस्तुत केले जातात. MOCVD प्रणाली लेझर, leds, फोटोइलेक्ट्रिक घटक, उर्जा, RF उपकरणे आणि सौर पेशींच्या निर्मितीसाठी प्रमुख उपकरणांपैकी एक आहे.

आमच्या कंपनीद्वारे निर्मित MOCVD तंत्रज्ञान स्पेअर पार्ट्सची मुख्य वैशिष्ट्ये:

1) उच्च घनता आणि संपूर्ण एन्कॅप्सुलेशन: संपूर्णपणे ग्रेफाइट बेस उच्च तापमानात आणि संक्षारक कार्य वातावरणात आहे, पृष्ठभाग पूर्णपणे गुंडाळलेला असणे आवश्यक आहे आणि चांगली संरक्षणात्मक भूमिका बजावण्यासाठी कोटिंगमध्ये चांगली घनता असणे आवश्यक आहे.

२) पृष्ठभागाची चांगली सपाटता: सिंगल क्रिस्टलच्या वाढीसाठी वापरल्या जाणाऱ्या ग्रेफाइट बेसला खूप जास्त पृष्ठभागाची सपाटता आवश्यक असते, कोटिंग तयार झाल्यानंतर बेसचा मूळ सपाटपणा राखला गेला पाहिजे, म्हणजेच कोटिंगचा थर एकसमान असणे आवश्यक आहे.

3) चांगली बाँडिंग स्ट्रेंथ: ग्रेफाइट बेस आणि कोटिंग मटेरियलमधील थर्मल विस्ताराच्या गुणांकातील फरक कमी करा, ज्यामुळे दोन्हीमधील बाँडिंगची ताकद प्रभावीपणे सुधारू शकते आणि उच्च आणि कमी तापमानाच्या उष्णतेचा अनुभव घेतल्यानंतर कोटिंगला तडे जाणे सोपे नाही. सायकल

4) उच्च थर्मल चालकता: उच्च-गुणवत्तेच्या चिप वाढीसाठी ग्रेफाइट बेसला जलद आणि एकसमान उष्णता प्रदान करणे आवश्यक आहे, म्हणून कोटिंग सामग्रीमध्ये उच्च थर्मल चालकता असणे आवश्यक आहे.

5) उच्च वितळण्याचा बिंदू, उच्च तापमान ऑक्सिडेशन प्रतिरोध, गंज प्रतिरोधक: कोटिंग उच्च तापमान आणि गंजलेल्या कार्य वातावरणात स्थिरपणे कार्य करण्यास सक्षम असावे.

4 इंच सब्सट्रेट ठेवा
वाढत्या एलईडीसाठी निळा-हिरवा एपिटॅक्सी
प्रतिक्रिया कक्षात ठेवले
वेफरशी थेट संपर्क 4 इंच सब्सट्रेट ठेवा
UV LED एपिटॅक्सियल फिल्म वाढवण्यासाठी वापरली जाते
प्रतिक्रिया कक्षात ठेवले
वेफरशी थेट संपर्क Veeco K868/Veeco K700 मशीन
पांढरा एलईडी एपिटॅक्सी/ब्लू-ग्रीन एलईडी एपिटॅक्सी VEECO उपकरणांमध्ये वापरले जाते
MOCVD Epitaxy साठी
SiC कोटिंग ससेप्टर Aixtron TS उपकरणे
डीप अल्ट्राव्हायोलेट एपिटॅक्सी
2-इंच सब्सट्रेट वीको उपकरणे
लाल-पिवळा एलईडी एपिटॅक्सी
4-इंच वेफर सब्सट्रेट TaC लेपित ससेप्टर
(SiC Epi/ UV LED रिसीव्हर) SiC लेपित ससेप्टर
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD ससेप्टर)